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SiGeC HBTs: impact of C on Device Performance

机译:SIGEC HBT:C对设备性能的影响

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摘要

Our UK consortium has recently reported advanced RF platform technology, which includes SiGe Heterojunction Bipolar Transistors (HBT) on Silicon-On-Insulator (SOI). The study in this paper is the continuation of the consortium work, focused on fabricating SiGeC HBTs and on the impact of C (up to 1.6?) on device performance. The devices with low C content (0.45?) exhibit excellent performance and gain up to 500. The results indicate that C content to be used in these devices should be less than 1.
机译:我们的英国联盟最近报告了先进的RF平台技术,包括在绝缘体上的SiGe异质结双极晶体管(HBT)(SOI)。本文的研究是联盟工作的延续,专注于制造SIGEC HBT和C(高达1.6?)对器件性能的影响。具有低C含量的设备(0.45?)表现出优异的性能并增益至500.结果表明这些设备中使用的C含量应小于1。

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