陽極酸化法を用いて作製したナノSiの構造評価

摘要

ナノ構造を有したシリコン（ナノSi）は，量子効果を現す可能性があることから従来のデバイス材料では実現できなかった高性能，新機能デバイス用材料として期待されている。現在，このナノSiの形成には，ドライブロセスとウェットプロセスが用いられている．この中で，ウェットプロセスの一つであるフッ化水素（HF）を使用した陽極酸化法は，大掛かりな装置が必要なく，容易に材料となる単結晶SiからナノSiを作製できるという利点を有している［2】．