EUV lithography; electro-static chuck; image placement accuracy; EB mask writer; OBBTC;
机译:扫描电子显微镜无损EUV掩模侧壁角度测量技术
机译:考虑到抗蚀剂显影过程的掩膜版的邻近效应校正
机译:用于EB X射线掩模写影的图像位置校正方法的评估
机译:用于EUV掩模写入的EBM-6000校正技术
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:成人前路喉罩气道插入两种技术比较的前瞻性随机临床试验-食指插入技术与90°旋转技术
机译:移动光纤/相位掩模扫描光束技术,用于写入具有均匀相位掩模的任意轮廓光纤光栅