SU-8; LIGA; adhesion; high-aspect-ratio; DXRL;
机译:X射线光刻中工艺参数和堆积密度对密集堆积高纵横比SU-8微结构显影时间的影响
机译:工艺参数和堆积密度对X射线光刻中高堆积比高密度SU-8微结构尺寸误差的影响
机译:高宽高比的微型图像在Sylmand深X射线光刻中的厚抗抗蚀剂层
机译:深X射线光刻SU-8抗蚀剂粘附性的研究
机译:深紫外光致抗蚀剂技术中的问题:用于248和213 nm光刻的本体和表面成像抗蚀剂的表征和建模。
机译:高纵横比和三维SU-8微/纳米结构的单光子多层干涉光刻
机译:具有sU-8抗蚀剂的超深X射线光刻中的氧淬灭效应
机译:增强的粘附缓冲层,用于使用硬X射线的深X射线光刻。