...
机译:工艺参数和堆积密度对X射线光刻中高堆积比高密度SU-8微结构尺寸误差的影响
X-ray lithography; Space-to-feature ratio; Dimensional error; SU-8; Taguchi design;
机译:工艺参数和堆积密度对X射线光刻中高堆积比高密度SU-8微结构尺寸误差的影响
机译:X射线光刻中工艺参数和堆积密度对密集堆积高纵横比SU-8微结构显影时间的影响
机译:密集包装的SU-8的超深X射线光刻技术:II。工艺性能随剂量,特征高度和曝光后烘烤温度的变化而变化
机译:深X射线光刻SU-8抗蚀剂粘附性的研究
机译:使用X射线断层扫描技术对多相多尺寸填充颗粒床进行三维分析的图像处理技术。
机译:高纵横比和三维SU-8微/纳米结构的单光子多层干涉光刻
机译:基于EPON树脂165和154的复合材料的新型UV光刻胶用于高纵横比的制备。