トライボナノリソグラフィー（TNL）と化学エッチングを併用した極微細構造形成（第2 報）－高アスペクト比の微細構造形成

摘要

本研究は，トライボナノリソグラフィー(TNL)と化学エッチングを併用した3次元微細構造形成法について検討している．高剛性の加工用カンチレバーを原子間力顕微鏡(AFM)に装着し，単結晶シリコンにナノスケール機械加工を行なうと，加工部でアモルファス層が形成される．この試料をKOH 水溶液でエッチング処理すると，加工部にマスキング作用が発現し，凸状の微細構造を形成できる．さらに，加工条件によりマスキング作用の強弱を変化させることで，3 次元微細構造の作製が可能である．本報では，単結晶シリコン(110)を用いた微細構造形成を行い，その形状の加工条件依存性について検討した．さらに，その結果を応用した高アスペクト比の微細構造形成について検討した．