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形成高纵横比特征的方法

摘要

公开了用于在衬底上形成高纵横比特征的方法和系统。例示性方法包含:在凹部内形成第一碳层;蚀刻所述第一碳层在所述凹部内的一部分;以及在所述凹部内形成第二碳层。还公开了使用所述方法或系统形成的结构。

著录项

  • 公开/公告号CN113140503A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASM IP私人控股有限公司;

    申请/专利号CN202110035620.9

  • 发明设计人 宇津野三矢;杉浦博次;须佐吉雄;

    申请日2021-01-12

  • 分类号H01L21/768(20060101);H01L23/48(20060101);H01L23/528(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人焦玉恒

  • 地址 荷兰阿尔梅勒

  • 入库时间 2023-06-19 11:54:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-01-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/768 专利申请号:2021100356209 申请日:20210112

    实质审查的生效

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