EUV lithography; imaging; photomask; image border; black border; ML etching;
机译:用于制造EUV掩模的干法蚀刻工艺
机译:硬掩模对双图案光刻中光刻-平版蚀刻工艺反射率的影响
机译:使用航空和SEM图像分析评估EUV掩模对晶圆线宽粗糙度的影响
机译:蚀刻EUV掩模黑色边框对成像的影响。第二部分。
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:掩蔽会产生金属涂层和裸露DNA的连续片段用于扫描隧道显微镜成像。
机译:新型EUV面罩吸收器评估支持下一代EUV成像