机译:O_3作为氧源在极低温(≤100℃)下生长的原子层沉积HfO_2薄膜的化学结构和电学性质
机译:不同退火气氛对在p-Si(100)衬底上生长的ZnO薄膜的表面和微结构性能的影响
机译:热退火对在p-Si(100)衬底上生长的ZnO薄膜的表面和微观结构特性的影响
机译:CEO {Sub} 2在P-Si(100)上生长的氧气空位诱导的电特性
机译:通过脉冲激光烧蚀生长的超导钇钡(2)铜(3)氧(7-x)薄膜的生长机理和电传输性质。
机译:掺杂Ga对氧空位对In2O3基薄膜晶体管光电性能的影响
机译:沉积后退火对通过等离子增强原子层沉积在p-Si上生长的B-Ga2O3薄膜的电性能的影响