rapid thermal processing; semiconductor technology; temperature control; temperature measurement; direct wafer temperature control; highly uniform repeatable process; indirect wafer temperature control; patterned wafers; rapid thermal processing strategies; tempe;
机译:灯加热快速热处理器中晶片温度均匀性和流型的改善
机译:硅晶片快速热处理过程中图案对热应力的影响
机译:线性升温温度瞬态快速热处理中12英寸硅片的热均匀性
机译:快速热处理工艺,可在图案化晶圆上实现高度均匀且可重复的工艺结果
机译:快速热处理中的温度和过程均匀性控制。
机译:通过低温快速热退火工艺控制生长高均匀性的硒化铟(In2Se3)纳米线
机译:一种改进晶圆温度均匀性快速热处理的设计方法
机译:快速热处理对si(100)衬底上均匀四方二硅化钨薄膜形成的影响