机译:具有Sio_2 / hfo_2 / hfsio门堆叠和Tan金属门的N-MOSFET的热载流子效应
机译:高k电介质堆叠的电子能量损失谱成像
机译:高介电常数介电体用于亚45纳米TaN金属栅极的等离子蚀刻
机译:用棕褐色金属栅极的HFSIO高k介电叠层的电子能损谱成像
机译:具有高κ栅极电介质的硅,锗和III -V衬底中的电子迁移率计算
机译:热收支对沉积HfSiO / TiN栅堆叠MOSCAP结构的原子层电学特性的影响
机译:(邀请的)金属栅/高κ介质栅极堆叠可靠性;或者我如何学会与氧化物一起生活