MOS; Nitridation; Channel Mobility; Reliability; TDDB;
机译:通过超高温栅极氧化和低氧分压冷却提高4H-SiC n-MOSFET的沟道迁移率
机译:利用磷掺杂的栅氧化物改善Si面上4H-SiC MOSFET的反向沟道迁移率
机译:铝离子注入材料上生长的栅极氧化物的n沟道Si Face 4H-SiC MOSFET的高场效应迁移率
机译:n {亚} 2o退火对4H-SiC MOSFET和栅极氧化物可靠性的频道迁移的影响
机译:4H-SIC沟槽MOSFET:实用的表面沟道迁移率提取
机译:4H-SIC双沟MOSFET采用分流异质结闸用于改善开关特性
机译:使用氧化亚氮(N2O)中生长的栅极氧化物增强4H-siC mOsFET中的反转沟道迁移率