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【24h】

First-Principles Study on Photoluminescence Quenching of Divacancy in 4H SiC

机译:第4H SiC中显着性淬火的第一原理研究

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摘要

In this work, quenching effect in the photoluminescence (PL) spectrum of divacancy defects in 4H SiC is investigated. Quenching in PL occurs when photoexcitation with an energy below a certain threshold is applied. In order to understand this phenomenon, we carried out Kohn-Sham density functional theory (DFT) calculations. In accordance with recent experimental results, we propose a physical model which explains the quenching phenomenon.
机译:在这项工作中,研究了4H SiC中的显着缺陷的光致发光(PL)光谱中的淬火效应。 当施加低于特定阈值的能量的光透镜时,在PL中淬火。 为了理解这种现象,我们进行了Kohn-Maf密度泛函理论(DFT)计算。 根据最近的实验结果,我们提出了一种解释淬火现象的物理模型。

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