X-ray mask4afinite element analyses; post exposure bake; temperature distribution;
机译:通过使用具有非化学放大抗蚀剂和曝光后烘烤的可变形状电子束光刻技术来制造高分辨率掩模
机译:曝光后烘烤中300mm晶片加热的热板热设计
机译:通过区域控制的曝光后烘烤来改善负性化学放大抗蚀剂的掩模制造的全局临界尺寸均匀性
机译:暴露后烘烤过程中X射线掩模的热控制研究
机译:AT2G44920的核磁共振光谱研究,来自拟南芥的五肽重复蛋白和X射线晶体学,K-RAS的等温滴定热法研究,一种人致癌GTP-ASE信号蛋白
机译:在目标控制的瑞芬太尼输注过程中Supreme™喉罩气道插入所需的七氟醚浓度低于ProSeal™喉罩气道插入:一项前瞻性随机对照研究
机译:Supreme™喉部面膜气道插入需要较低浓度的七氟烷浓度,而不是Prafeal™喉部掩模气道插入在目标控制的雷芬尼胺输注期间:预期随机对照研究