electrical linewidth measurement; electrical CD measurement; ELM; ECD;
机译:通过扫描电子显微镜检查和极浅Si刻蚀有效测量45nm半间距紫外纳米压印光刻图形的线宽
机译:透射电子显微镜:一种用于光刻的线宽测量技术
机译:使用HRTEM将电线宽测量值引用到硅晶格参数的测试结构
机译:下一代光刻电气线路测量
机译:多晶铁氧体中的微波有效线宽:精确的测量和新的解释。
机译:X射线光刻掩模计量学:透射电子在SEM中用于线宽测量
机译:二维材料的无光刻电传输测量 直接微探测
机译:通过具有50nm线宽的X射线掩模的三电平电子束光刻制造,以及通过X射线纳米光刻复制