bitcell patterning; low K1 lithography; off-axis illumination;
机译:压花过程中聚合物膜厚度和空腔尺寸对聚合物流动的影响:朝着纳米压印光刻工艺设计规则的方向
机译:定向自组装光刻技术的设计技术协同优化评估:定向自组装设计还是设计定向自组装?
机译:照明设计的单纯形优化方法
机译:优化照明对低k1光刻简单Lambda设计规则的影响
机译:基于简单有效的优化的FIR重复控制器设计,并使用初始条件更新转换为学习控制。
机译:撰写可读的散文:在规划科学手稿时遵循一些简单规则会产生很大影响
机译:利用单一计算光刻框架优化从设计规则,源和掩模到全芯片:基于水平集方法的逆光刻技术(ILT)
机译:聚合物膜厚度和腔体尺寸对压花过程中聚合物流动的影响:纳米压印光刻的工艺设计规则