机译:在U型硅沟槽的侧壁和底部上生长的栅氧化物:氧化物和氧化物/硅界面条件对垂直MOS器件性能的影响
机译:用于大功率微波真空电子设备的基于碳纳米管的冷阴极:潜在的场发射器
机译:使用通过微波等离子体增强化学气相沉积法在硅尖端区域生长的多壁碳纳米管的场发射器
机译:门控碳纳米管发射器生长在带有侧壁间隔物的硅沟槽井中,用于稳定的真空微波器件
机译:基于通过超高真空化学气相沉积直接在硅衬底上生长的外延锗碳层的金属氧化物半导体器件。
机译:具有微型真空计的多壁碳纳米管场致发射器的设计
机译:高真空下多晶硅微器件的侧壁粘附和滑动接触行为
机译:整体门控碳纳米管 - 柱后场发射器阵列