机译:蒙特卡罗模拟和溶出度模型研究后正光刻化学放大抗蚀剂显影后的线边缘粗糙度
机译:电子束光刻中正性化学放大抗蚀剂的抗蚀剂轮廓模拟的一些特殊性
机译:化学放大电子束抗蚀剂中线边缘粗糙度形成的溶解因子分析
机译:溶解抑制剂对化学放大正电子束抗蚀剂溶解特性的影响
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:化学交联水凝胶的按需溶解
机译:溶解抑制剂对化学扩增三组分正抗蚀剂溶出特性的影响。
机译:甲基丙烯酸酯基电子束抗蚀剂聚合物降解和选择性溶解的化学因素:核磁共振和电子自旋共振研究