机译:Arf受激准分子激光,电子束和极紫外辐射照射下基于金刚烷衍生物的化学放大抗蚀剂的灵敏度之间的关系
机译:极端紫外光刻中负型化学放大抗蚀剂图案形成的随机仿真
机译:用于准分子激光烧蚀光刻的新型激光烧蚀剂。光化学性质对烧蚀的影响
机译:用于ARF准分子激光光刻的负型化学放大抗蚀剂
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:193 nm ArF受激准分子激光在激光辅助等离子体增强SiNx的化学气相沉积中的作用以进行低温薄膜封装
机译:含有ARF准分子激光光刻的化学放大的抗蚀剂。
机译:湿法开发的双层抗蚀剂,用于193纳米准分子激光光刻