首页> 外文会议>Electromagnetic Compatibility Symposium Record, 1968 IEEE >Characterization of Polysilicon-Oxide-Nitride-Oxide-Silicon (SONOS) Nonvolatile Semiconductor Memory (NVSM) Devices
【24h】

Characterization of Polysilicon-Oxide-Nitride-Oxide-Silicon (SONOS) Nonvolatile Semiconductor Memory (NVSM) Devices

机译:多晶硅-氮化物-氮化物-硅氧化物(SONOS)非易失性半导体存储器(NVSM)器件的表征

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