EUV lithography; computational lithography; EUV masks; phase shift masks; telecentricity error; 3D mask effects; multiobjective optimization;
机译:用于极端紫外线的衰减相移掩模:它们可以减轻三维掩模的影响吗?
机译:EUV投票制版光刻技术可减轻印刷掩模缺陷,改善CDU并减少随机故障
机译:“投票”暴露的掩模 - 3D效应减轻
机译:euv减毒PSM:他们可以减轻3D掩码效果吗?
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:牙周韧带干细胞的3D团块/细胞外基质复合物改善了LPS对增殖和骨质发生潜力的衰减作用
机译:极端紫外线的减毒相移掩模:它们是否可以减轻三维掩模效果?