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Moshe Preil; James W.Westphal;
KLA Corporation;
EUV; 掩膜版; 检测; 随机; 掩膜版护膜;
机译:杜邦光掩膜与LETI联用于光罩,EUV掩膜
机译:将EUV光刻技术应用于2X DRAM及其以后的工艺,IC制造商的EUV抗蚀剂现状和工艺开发
机译:减少大都市圈的网络成本时面临的技术问题
机译:在晶体管中使用二维材料时面临的一些问题。
机译:窄带掩膜器在500或2000 Hz时掩膜电平差异的个体差异
机译:EUV可扩展性:1x及以后面临EUV面临的挑战
机译:空间技术应用于实际问题,例如目前面临科罗拉多州山区的问题
机译:EUV光刻技术的掩膜及其制造方法
机译:具有用于反射层的EUV光刻技术,用于反射掩模坯料的EUV光刻技术,用于反射掩模的EUV光刻技术,以及具有反射层的衬底的制造方法。
机译:用于EUV曝光的光反射性光掩膜和掩膜掩膜以及半导体器件的制造方法
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