EUV lithography; Chemically Amplified Resist; Metal Sensitizer; Acid Yield; Dissolution;
机译:金属敏化剂对EUV化学放大抗蚀剂敏感性改进的作用
机译:金属增敏剂在EUV化学增强型抗蚀剂灵敏度提高中的作用
机译:极紫外化学放大抗蚀剂中的敏化剂:提高灵敏度的机理
机译:EUV中的敏感剂化学放大抗蚀剂:敏感性改善机制
机译:基于断链机理的193 nm光刻技术探索非化学放大抗蚀剂。
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:极端紫外线的敏感剂化学放大抗蚀剂:敏感性改善机制