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高灵敏度光致抗蚀剂电子束刻蚀技术研究

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摘要

我国微电子进入新的飞速发展时期,新的生产线在不断兴建,集成电路设计公司已超过300多家.但大量的都是中小设计公司,对制版和流片的都要有较低的成本;另一方面就是环境保护方面对生产的要求,希望尽可能减少对环境的污染或是减少对污染的处理压力.基于这种情况我们提出将高灵敏度光致抗蚀剂用于电子束掩模制造.

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来源
《第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会》|2003年|32-33|共2页
会议地点北京
作者
彭力; 陈惠萍; 沈俊然; 王新华; 国芳; 严剑荫; 过建群; 岳涛;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
高灵敏度; 光致抗蚀剂; 电子束; 刻蚀技术;

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