公开/公告号CN104199255B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-03-13
原文格式PDF
申请/专利权人 信越化学工业株式会社;
申请/专利号CN201410471281.9
申请日2011-02-16
分类号
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人任宗华
地址 日本东京
入库时间 2022-08-23 10:08:43
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-03-13
授权
授权
2015-01-07
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/038 申请日:20110216
实质审查的生效
2014-12-10
公开
公开
机译: 用于EB或EUV光刻和图案化工艺的化学放大负型抗蚀剂组合物
机译: 负性抗蚀剂形成方法及使用其后的负性化学放大性抗蚀剂组合物和抗蚀剂组合物
机译: 用于电子束或EUV的化学放大负性抗蚀剂组合物和图案形成方法