机译:使用Algan / Aln / GaN应力缓解层对高电子迁移率晶体管应用的Si衬底上生长的GaN缓冲器结构特征的原位应力进化及其相关性
机译:用于AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的SiC衬底上通过氨分子束外延生长的GaN缓冲层的结构和形态学特性
机译:大面积工程衬底上厚GaN外延层和AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的电热评估
机译:通过在Si基板中加宽耗尽层GaN晶体管阻塞 - 电压升压技术
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:使用不同缓冲层配置的200mm硅(111)衬底上的AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管结构研究
机译:Gan-On-On-Silicon高电子移动晶体管技术,超低泄漏高达3000 V,使用局部基板去除和ALN超宽带隙
机译:m面alGaN / GaN和alInN / GaN异质结构的外延生长适用于常驻型GaN基板上的常关模式高功率场效应晶体管