EUV lithography; Off-Axis illumination; shadow effect; incident angle;
机译:离轴照明的入射角对极紫外光刻中图案可印刷性的影响
机译:离轴照明对100 nm宽度图案可印刷性的角度依赖性,用于极端紫外光刻:Ru / Mo / Si反射器系统
机译:极紫外光刻中轴外入射光掩模图案校正后的航空影像不对称性
机译:16 NM节点极端紫外线光刻不同离轴照明引起的入射角变化的影响 - (PPT)
机译:表面科学中的两个主题:氧诱导镍铝Al(111)的形态变化;与极紫外光刻相关的钌和二氧化钛表面的二次电子产率研究。
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:用于激光等离子体的极紫外光刻的大固体角度照明器
机译:用于极紫外投影光刻的临界照明聚光器