partially coherent imaging; binary mask; wavelet penalty; optical lithography; image synthesis;
机译:具有部分相干照明的逆光刻的二进制掩模优化
机译:相干系统中基于边界层模型的正向光刻二元掩模优化:勘误
机译:相干系统中基于边界层模型的正向光刻二元掩模优化:勘误
机译:具有部分相干照明的二进制掩模优化逆光刻
机译:使用相移掩模在高数值孔径光刻中表征偏振照明。
机译:使用部分相干照明的透明结构的狼相断层扫描(WPT)
机译:利用单一计算光刻框架优化从设计规则,源和掩模到全芯片:基于水平集方法的逆光刻技术(ILT)