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【24h】

Binary mask optimization for forward lithography based on boundary layer model in coherent systems: erratum

机译:相干系统中基于边界层模型的正向光刻二元掩模优化:勘误

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摘要

This erratum is to correct an error in the simulations detailed in our paper [J. Opt. Soc. Am A 26, 1687 (2009)].
机译:这个错误是为了纠正我们在论文中详细描述的模拟中的错误[J.选择。 Soc。 [A Am 26,1687(2009)]。

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