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彭清维; 陈德良;
贵州师范学院,贵州贵阳550018;
贵州大学,贵州贵阳550025;
光刻工艺; 矩阵积分法; 离焦;
机译:基于矢量成像模型的光刻中的掩模优化方法
机译:部分相干双曝光光刻技术的基于梯度的反光刻方法
机译:具有部分相干照明的逆光刻的二进制掩模优化
机译:相干和部分相干情况下散射矩阵的优化程序
机译:部分相干定量相位检索及其在极紫外光刻中的应用。
机译:使用多对比度琼斯矩阵光学相干断层扫描和半自动训练数据集生成的基于机器学习的视神经头部分割
机译:具有部分相干照明的光学微光刻的拓扑优化
机译:聚光器光学,部分相干和用于软X射线投影光刻的成像。
机译:利用全计算机模拟和过程窗口矩阵优化光刻投影系统照明条件的方法,光刻投影系统和可在机器中运行的带有指令字的机器可解释介质编码
机译:用于基于琼斯矩阵执行分析的系统和方法,该琼斯矩阵用于使用偏振敏感光学相干层析成像技术测量未消除的偏振的偏振参数
机译:利用多重相干优化的曝光和高透射衰减的PSM,改进了光刻图形化方法
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