magnetron sputtering; thickness uniformity of film; the ratio of rotation speed to revolution speed;
机译:膜厚和溅射功率对无氧RF磁控溅射沉积ITO薄膜性能的影响
机译:通过光谱椭圆形测定法分析磁控溅射ZrN膜厚度依赖电子传输
机译:溅射压力和铝缓冲层厚度对射频磁控溅射生长AZO薄膜性能的影响
机译:具有多个工作台的磁控溅射系统膜厚度分析
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:SiNx扩散阻挡层厚度对溶胶-凝胶浸涂和反应磁控溅射获得的TiO2薄膜的结构性能和光催化活性的影响
机译:基于行星运动的磁控溅射薄膜涂层厚度分布分析