首页> 外文会议>Reliability Physics Symposium, 2005. Proceedings. 43rd Annual. 2005 IEEE International >The effect of mechanical stress from stopping nitride to the reliability of tunnel oxide and data retention characteristics of NAND FLASH memory
【24h】

The effect of mechanical stress from stopping nitride to the reliability of tunnel oxide and data retention characteristics of NAND FLASH memory

机译:停止氮化物的机械应力对隧道氧化物可靠性和NAND FLASH存储器数据保留特性的影响

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