CMOS integrated circuits; invertors; integrated circuit reliability; semiconductor device breakdown; leakage currents; dielectric thin films; gate oxide multiple soft breakdown; CMOS inverter; noise margin; off-state leakage current; gate induced drain leakage; gate oxide reliability; higher operation voltage; circuit design;
机译:栅极氧化物击穿对CMOS反相器的影响和模型
机译:CMOS反相器中栅极氧化物击穿的模型
机译:栅极氧化物击穿对CMOS反相器的影响和模型
机译:栅极氧化物多次软击穿(多SBD)对CMOS逆变器的影响
机译:研究栅极氧化层击穿和热电子对CMOS电路性能的影响。
机译:高k和更稳定的稀土氧化物作为先进CMOS器件的栅极电介质的设计
机译:使用40nm CMOS中使用柔软的氧化氧化物分解的物理上不可渗透功能
机译:激光加工多层基板上的垂直单栅CmOs反相器