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机译:栅极氧化物击穿对CMOS反相器的影响和模型
Departament d'Enginyeria Electronica, Universitat Autbnoma de Barcelona, Bellaterra, 08193 Barcelona, Spain;
dielectric breakdown; oxide reliability; leakage currents; oxide breakdown; CMOS;
机译:CMOS反相器中栅极氧化物击穿的模型
机译:栅极氧化物击穿对CMOS反相器的影响和模型
机译:CMOS AND-OR-反相器和OR-AND-反相器门的高效物理时序模型及其应用
机译:栅极氧化物击穿对CMOS反相器影响的建模和实验验证
机译:研究栅极氧化层击穿和热电子对CMOS电路性能的影响。
机译:高k和更稳定的稀土氧化物作为先进CMOS器件的栅极电介质的设计
机译:基于等效逆变器的CmOs栅极建模
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