机译:具有HfO_2高k栅极电介质的Mo-金属门控MOSFET的工艺集成问题
机译:使用CVD $ hbox {HfO} _ {2} $栅极介电和Si表面钝化的自对准栅优先Ge p和n沟道MOSFET的特性
机译:使用CVD $ hbox {HfO} _ {2} $栅极介电和Si表面钝化的自对准栅优先Ge p和n沟道MOSFET的特性
机译:传统的N沟道MOSFET器件使用单层HFO {SUB} 2和ZRO {SUB} 2,作为具有多晶硅栅电极的高k栅极电介质
机译:快速热CVD高k栅极电介质和CVD金属栅电极的技术开发和研究,用于未来的ULSI MOSFET器件集成:氧化锆和氧化ha。
机译:具有高k La2O3 / ZrO2栅极电介质的肖特基势垒SOI-MOSFET
机译:用于CMOS应用的具有多晶硅栅电极的MOCVD HfO2介电层的电性能