首页> 中国专利> 基于HfO2-ZrO2超晶格铁电栅介质的晶体管及其制备方法

基于HfO2-ZrO2超晶格铁电栅介质的晶体管及其制备方法

摘要

本发明属于电子技术领域,公开了一种基于HfO2‑ZrO2超晶格铁电栅介质的晶体管及其制备方法,该晶体管包括:底电极、超晶格铁电栅介质层、金属氧化物沟道、源极、漏极、绝缘电介质薄膜、栅电极和衬底;其中,所述底电极、超晶格铁电栅介质层、金属氧化物沟道在衬底依次由下至上竖直分布;所述源极、漏极分布在所述金属氧化物沟道的两侧;所述绝缘电介质薄膜、栅电极在所述金属氧化物沟道上依次由下而上垂直分布;通过本发明的方法能够获得与现有集成工艺兼容、泄漏电流小、铁电性能优异、可靠性良好的金属氧化物晶体管器件。

著录项

  • 公开/公告号CN113571583A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN202110664651.0

  • 申请日2021-06-16

  • 分类号H01L29/78(20060101);H01L21/336(20060101);H01L29/10(20060101);H01L29/24(20060101);

  • 代理机构61218 西安睿通知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人包春菊

  • 地址 710071 陕西省西安市雁塔区太白南路2号

  • 入库时间 2023-06-19 13:02:24

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号