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Improved photoresist integrity by UV photostabilization for high dose, high energy ion implants

机译：通过紫外线光稳定剂改善高剂量，高能量离子注入的光致抗蚀剂完整性

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《Ion Implantation Technology, 2000. Conference on》|2000年|P.817-820|共4页
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作者
Rubin; L.; Whiteside; D.;
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正文语种
中图分类无线电电子学、电信技术;
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