机译:中剂量氟注入提高了p〜+-多晶硅-栅p-沟道金属氧化物半导体的超薄栅氧化物完整性
机译:中剂量氟注入提高了p〜+-多晶硅-栅p-沟道金属氧化物半导体的超薄栅氧化物完整性
机译:金属栅/高k /超-SiO_2 / Si p沟道金属氧化物半导体叠层中的平带电压急剧下降的起源
机译:在互补金属氧化物半导体技术中采用2.0 nm栅极氧化物增强应变的p沟道金属氧化物半导体晶体管的热孔诱导降解
机译:通过在纯N / sub 2 / O环境中常规氧化Si制备的具有超薄栅氧化物的N沟道和P沟道MOSFET的器件性能和可靠性得到改善
机译:氧化物表面和金属氧化物界面的反应性:水蒸气压力对超薄氧化铝膜的影响,以及铂在超薄氧化膜上的生长模式及其对粘附力的影响的研究。
机译:基于极化诱导的二维空穴气的P沟道InGaN / GaN异质结构金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:具有超薄等离子体 - 氮化SiON电介质的P沟道金属氧化物半导体场效应晶体管负偏置温度不稳定性下的界面阱和氧化物电荷产生
机译:具有快速生长的超薄siO2栅极绝缘体的mOs(金属氧化物半导体)器件的界面和击穿特性。