机译:由于电子束光刻(SCALPEL)掩模的图案转移而导致的掩模膜变形
机译:水辅助电子束诱导的碳纳米管催化剂催化剂载体的载体较少,无抗抗性图案化
机译:使用两种高通量电子束检查系统研究极紫外图形掩模的缺陷可检测性
机译:用于130nm代面罩的电子束图案发生器的设计考虑因素
机译:利用基于图像的格式,以优化模式数据格式和掩模和掩模模式生成光刻的处理
机译:关联神经网络模型用于生成时间模式。理论及其在中央模式发生器中的应用。
机译:虚拟栅极结构可在不使用额外的硅化物阻挡掩模的情况下提高全硅化130纳米CmOs技术的EsD稳健性
机译:基于数字的电子束焊机模式发生器