机译:在硅衬底上的MOCVD生长的InGaAs外延层上制造的低界面陷阱密度Al_2O_3 / In_(0.53)Ga_(0.47)As MOS电容器
机译:在外延沉积p〜+层的n型衬底上生长的多层多孔硅样品的形貌生长特征和光学特性的研究
机译:氮掺杂直拉生长硅衬底上外延层的晶体缺陷(Ⅱ)“通过控制晶体生长条件和碳共掺杂抑制外延层中的晶体缺陷”
机译:N型载波在MOCVD生长的基质基板与外延层界面处N型载波的生长条件依赖性
机译:在电子和光子器件应用的硅基板上MOCVD生长的InP和相关薄膜。
机译:缓冲剂类型对InP(100)衬底上生长的In0.82Ga0.18As外延层的影响
机译:对(NH4)(2)S钝化(22%,10%,5%或1%)的Al2O3 / In0.53Ga0.47As / InP系统的n型和p型钝化性能的系统研究In0.53Ga0.47As外延层
机译:在HpVE生长的模板和自支撑GaN衬底上的N型GaN层的mOCVD生长和蚀刻