Crosstalk defect between develop to etch process; Develop chemical residues; Dry etching chemical radical;
机译:为铜双大马士革氧化物蚀刻工艺开发缺陷减少策略
机译:开发用于最大掩模蚀刻的过程配方和具有垂直侧壁的最大蚀刻速率,用于深度,高度各向异性电感耦合等离子体(ICP)蚀刻熔融二氧化硅的蚀刻
机译:硬掩模对双图案光刻中光刻-平版蚀刻工艺反射率的影响
机译:掩盖显影与蚀刻工艺之间的串扰缺陷
机译:高度芳族单分子蚀刻掩模的抗蚀刻性机理和发展:迈向分子光刻。
机译:感觉处理:通过结合信号增强和掩蔽减少功能在下丘中释放共调制掩蔽
机译:使用片上嵌入式处理器内核测试互连串扰缺陷
机译:利用聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)蚀刻掩模对二硫化钼(mos2)进行反应离子蚀刻的工艺开发。