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砷化镓; 等离子体蚀刻; 纳米结构; 掩模; 自形成;
机译:等离子体蚀刻通过Ga〜+离子聚焦束形成的掩模形成的硅基纳米结构
机译:使用自组装阳极氧化铝掩模通过电感耦合等离子体蚀刻大规模制备均匀的纳米图形硅衬底
机译:镍和铜的蚀刻掩模选择性对碳化硅(SIC)深,各向异性等离子体蚀刻过程的蚀刻掩模选择性
机译:通过使用去湿润的Pt岛作为蚀刻掩模的干法蚀刻制备纳米结构
机译:高度芳族单分子蚀刻掩模的抗蚀刻性机理和发展:迈向分子光刻。
机译:通过使用MWCNT蚀刻掩模的表面纳米结构通过增加Si上的光俘获来增强光敏性
机译:用脱丝Pt岛作为蚀刻掩模的干蚀刻制备纳米结构
机译:通过湿法和干法蚀刻铬掩模进行图案转移制备锂铌酸盐中的光子晶体。
机译:电子集成电路的制造方法,包括在共聚物层中形成蚀刻掩模,通过之前的蚀刻掩模蚀刻介电材料来形成另一蚀刻掩模,以及通过后面的蚀刻掩模去除牺牲材料。
机译:光掩模等离子体蚀刻设备,蚀刻方法和光掩模形成方法
机译:纳米结构的制造方法,例如全息图的光栅电子显微镜接收器,涉及在衬底表面上施加载体层,并使用载体层作为蚀刻掩模,通过蚀刻工艺在表面上产生纳米结构
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