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【24h】

Process Development for Reactive-Ion Etching of Molybdenum Disulfide (MoS2) Utilizing a Poly(methyl methacrylate) (PMMA) Etch Mask.

机译：利用聚甲基丙烯酸甲酯（pmma）蚀刻掩模对二硫化钼（mos2）进行反应离子蚀刻的工艺开发。

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Mazzoni, A. L.; Chipara, A. C.; Burke, R. A.; Nichols, B. M.; Chin, M. L.; Najmaei, S.; Zakar, E.; Dubey, M.;
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年度 2017
页码 1-26
总页数 26
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类
关键词
Poly(methyl methacrylate); Reactive-Ion Etching;

机译：聚（甲基丙烯酸甲酯）;反应离子蚀刻;

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