Development profiles; Electron beam lithography; Etch rate model; Monte Carlo method;
机译:反射电子束光刻:使用反射电子束光刻概念的无掩模电子束直接写入光刻方法
机译:电子束光刻中的开发过程的多尺度模拟
机译:在不同基板上进行电子束光刻的工艺模拟
机译:高能电子束光刻工艺的蒙特卡罗模拟
机译:聚合物抗蚀剂的电子束感应电导率效应和电子束光刻中的电荷感应电子束偏转模拟。
机译:用于高纵横比和高灵敏度电子束光刻的SML抗蚀剂处理
机译:用UV1116光刻胶用高能电子束光刻制造纳米结构透射光学装置的制造