机译:用UV1116光刻胶用高能电子束光刻制造纳米结构透射光学装置的制造
机译:使用高能电子束光刻技术在具有UV1116光刻胶的ITO玻璃上制备纳米结构的透射光学器件
机译:电子束光刻和软光刻技术制造和集成聚合物集成光学器件
机译:厚纳米结构器件的电子束光刻和电沉积制造
机译:直接写入电子束光刻与光学光刻自动对准,用于器件制造
机译:用于电子束光刻应用的纳米电子器件的制造和表征。
机译:通过提高精度的电子束光刻覆盖层来制造三维悬浮层间和分层纳米结构
机译:用于电子束光刻的高对比度3D接近校正:用于制造悬挂掩模的使能技术,用于在UHV环境中完成器件制造