机译:通过MOCVD在GaAs衬底上制备150nm T-Gate变质AlInAs / GaInAs HEMTs
机译:通过金属有机化学气相沉积法在GaAs衬底上制备160 nm T栅极变质AlInAs / GaInAs HEMT
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机译:GaAs衬底上的AlInAs / GaInAs变质HEMT:从材料到器件
机译:基于在结构化衬底上生长的低阈值应变InGaAs / GaAs量子阱激光器的光电器件
机译:GaInAsSb材料在GaAs衬底上用于发光器件应用的变质集成
机译:MOCVD的硅基板上的0.3-μm门长变质alinas / gainas hemts