CD control; CDC; CDU; aerial imaging; AIMS; shading elements; ultrafast laser; photomask;
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机译:基于模型的抗蚀剂和掩模对EUV光刻中低于30 nm接触孔的局部CDU的影响
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机译:具有相位掩模的光纤布拉格光栅的超快红外激光制造。
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