resist reflow process; optical proximity correction; contact hole; viscosity; bulk effect;
机译:使用电阻回流工艺的32 nm节点随机接触孔阵列的临界尺寸控制
机译:32 nm节点任意图案的抗蚀剂回流工艺
机译:50nm以下接触孔抗蚀剂回流工艺中的位置偏移分析
机译:具有抗蚀剂回流过程的32个NM节点随机接触孔阵列的关键尺寸控制
机译:模拟光刻胶接触孔阵列的热回流。
机译:用于回填电阻随机存取存储器阵列的耐久性增强的早期检测电路
机译:193 nm接触孔的优化抵抗100nm节点。