The University of Wisconsin - Madison.;
机译:使用两种不同光刻胶的热回流技术快速制造半椭圆微透镜
机译:光刻胶滚筒热回流制微透镜的几何表征技术
机译:50nm以下接触孔抗蚀剂回流工艺中的位置偏移分析
机译:基于ROMA聚合物的高性能193nm光刻胶材料;电阻回流低于90nm的接触孔应用
机译:纳米孔激发表面等离激元极化子,纳米孔阵列激发二维有源光学器件。
机译:扫描近场光学显微镜扫描光致抗蚀剂层孔纳米图的形成与表征
机译:使用光致抗蚀剂热回流方法形状误差及其在微透镜阵列制造中的补偿
机译:光刻胶的高通量接触孔分辨率度量:全工艺灵敏度研究