anti-reflective coating; BARC; etch; CD control; thin film;
机译:超数值孔径光刻中提高分辨率的技术和双层底部减反射涂层的优化
机译:适用于193和157 nm光刻应用的低碱性污染底部抗反射涂层
机译:F_2准分子激光平版印刷中的低碱性污染双层底层抗反射涂层
机译:新的快速蚀刻底抗反射涂层248nm光刻
机译:设计宽带抗反射涂层。
机译:使用纳米球刻蚀,软刻蚀和等离子刻蚀制造的等离子纳米结构
机译:193nm和248nm的方法第一和第二代辐射敏感可开发的底抗反射涂层(DBarc)